ru en
Оборудование. BIORUS® - Все для масштабируемой биотехнологии.

Приборы мутационной селекции

Серия приборов мутационной селекции

Технология плазмы при атмосферном давлении и комнатной температуре (Atmospheric room temperature plasma - ARTP) по сравнению с традиционным источником плазмы газового разряда низкого давления характеризуется низкотемпературной плазменной струей, однородным разрядом и высокой концентрацией химически активных частиц. Был разработан первый в мире метод использования плазмы для мутационной селекции микроорганизмов с применением специального оборудования на основе технологии ARTP - ARTP Mutagenesis Breeding Machine. Прибор отличается высокой частотой мутаций, компактной конструкцией, простотой использования, высокой безопасностью и быстрым мутагенезом. Операция мутагенеза (в течение нескольких минут) позволяет получить обширную библиотеку мутагенеза, что значительно увеличивает интенсивность и производительность мутации штаммов. Сочетание технологии ARTP и высокопроизводительного скрининга обеспечивает возможность быстрой и эффективной селекции организмов.

Назначение: 

  • повышение толерантности микроорганизмов к определенным условиям культивирования и составляющим культуральной среды
  • улучшение условий культивирования и связанных с этим параметров
  • повышение активности ферментов
  • увеличение производства бутанола
  • увеличение производства органических кислот и их производных
  • увеличение производства специальных химических веществ, главным образом используемых в фармацевтических продуктах.

Область применения:

Прибор ARTP широко применяется в области мутационной селекции

  • прокариотов (бактерии, актиномицеты, др);
  • эукариотов (плесневые грибы, дрожжи, водоросли, высшие грибы, др).
Модельный ряд

ARTP-M

ARTP-IIS

ARTP-IIIS

ARTP-P

Изображение

ARTP-M ARTP-IIS ARTP-IIIS ARTP-P

Требуемая мощность

300 Вт (макс.)

500 Вт (макс.)

1000 Вт (макс.)

1000 Вт (макс.)

Система обработки образца

Обработка одного образца

Непрерывная обработка и автоматический сбор 6 образцов

Непрерывная обработка нескольких образцов

Непрерывная обработка и автоматический сбор в держателе большой площади

Модуль автоматизации

/

Автоматический модуль
(Инъекция, обработка и сбор)

Автоматический модуль
(Инъекция, обработка и сбор)

Автоматический модуль
(Инъекция, обработка и сбор)

Настройка интеллектуальной передачи

/

/

/

Высшая, средняя и низшая шестерни с различной мощностью и различными параметрами содержания газа

РЧ-мощность

0 – 120 Вт

0 - 140 Вт

0 - 140 Вт

240 ~ 400 Вт

Программное обеспечение

V1.0

V2.0

V3.0

V3.0

Среда рабочего помещения

/

/

Чистая комната
(100% чистый стерильный воздушный поток)

/

Время обработки

0 ~ 600 с

0 ~ 600 с

0 ~ 600 с

0 ~ 9000 с, с непрерывной регулировкой

Возможность обработки образца

? 8 мм

? 8 мм

? 8 мм

120 мм * 70 мм

Технология разряда

Равномерный тлеющий разряд при атмосферном давлении и равномерная и стабильная плазменная струя

Равномерный тлеющий разряд при атмосферном давлении и равномерная и стабильная плазменная струя

Равномерный тлеющий разряд при атмосферном давлении и равномерная и стабильная плазменная струя

Равномерный тлеющий разряд при атмосферном давлении и равномерная и стабильная плазменная струя

Рабочий газ

Гелий

(чистота:>99,999%)

Гелий

(чистота:>99,999%)

Гелий

(чистота:>99,999%)

Гелий

(чистота:>99,999%)

Расход газа

0 ~ 12 ст. л./мин
(стандартные литры в минуту)

0 ~ 15 ст. л./мин
(стандартные литры в минуту)

0 ~ 15 ст. л./мин
(стандартные литры в минуту)

0 ~ 30 ст. л./мин
(стандартные литры в минуту)

Точность контроля потока газа

±1,0% полной шкалы

±1,0% полной шкалы

±1,0% полной шкалы

±1,0% полной шкалы

Эффективное расстояние обработки

2 мм

2 мм

2 мм

2 мм

Система охлаждения

Система охлаждения

Внешняя система охлаждения

Внутренняя система охлаждения

Внутренняя система охлаждения

Температура плазменной струи

<37°C

<37°C

<37°C

<37°C

Рабочая среда

Температура: 15 ~ 25°C,
Влажность <60%

(рекомендуется чистая комната)

Температура: 15 ~ 25°C,
Влажность <60%

(рекомендуется чистая комната)

Температура: 15 ~ 25°C,
Влажность <60%

(рекомендуется чистая комната)

Температура: 15 ~ 25°C,
Влажность <60%

(рекомендуется чистая комната)

Область применения

Бактерии, актиномицеты, плесень,

дрожжи, водоросли, грибки и так далее

Бактерии, актиномицеты, плесень,

дрожжи, водоросли, грибки и так далее

Анаэробные штаммы, бактерии,

актиномицеты, плесень, дрожжи,

водоросли, грибки и так далее

Водоросли, съедобные грибы, грибки,

растения (пыльца, семена, зародыши),

животные (оплодотворенные яйца, саженцы)

Преимущества:

  • обеспечение безопасности продуктов, без ГМО
  • широкая область применения
  • высокая производительность мутаций
  • специальная технология мутагенеза с использованием гелиевой плазмы
  • обеспечение высокой интенсивности повреждения гена
  • легкая, безопасная и недорогая эксплуатация
  • удобное обслуживание

Восстановить пароль